VSM Xelerion Feinschliff auf neues Level gebracht

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VSM präsentiert seine neueste Schleifmittel-Technologie: VSM Xelerion ermöglicht dank neuartiger randomisierter Punktstruktur feinste Oberflächen in weniger Prozessschritten als üblich. Schleifprozesse werden effizienter – und Anwender deutlich entlastet.

Strukturierte Schleifmittel kommen besonders bei Fein- und Feinstschleifaufgaben zum Einsatz, wo hohe Oberflächengüte das Ziel ist. In der Regel ist hier eine lange Bearbeitungsdauer mit vielen Körnungsschritten nötig, zudem ist die Arbeit damit für Anwender oft unangenehm, geht sie doch mit starker Hitze- und Lärmentwicklung sowie hoher Emission in Form von Staub und Gerüchen einher.

Die Schleifmittelexperten der VSM AG haben das Prinzip eines strukturierten Feinschleifmittels deshalb jetzt entscheidend verbessert. VSM Xelerion erzielt ein fehlerfreies, einheitliches und reproduzierbares Schliffbild bei anhaltend hohem Materialabtrag – und ist dabei effektiver und anwenderfreundlicher als vergleichbare Produkte.

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Grund dafür ist eine komplett neuentwickelte Kornstruktur: Die Xelerion-Dots, bestehend aus mehreren Lagen scharfer Schleifkörner in Kunstharzbindung, sind im Gegensatz zu ähnlichen Produkten nicht streng symmetrisch auf dem Träger angeordnet, sondern ganz bewusst randomisiert, also: zufällig. Das neue, innovative Herstellungsverfahren macht den entscheidenden Unterschied auf gleich mehreren Ebenen:

Kühlerer Schliff – perfekte Oberflächen

So sorgt die einzigartige Punktstruktur der Xelerion-Dots für eine optimierte Verteilung von Kraft und Wärme und somit für einen kühleren Schliff, der z. B. Verfärbungen und Verformungen entgegenwirkt. Im Gegensatz zu anderen Schleifmitteln bleibt auch die Oberflächengeometrie von Xelerion bis zum Standzeitende «offen», ebenfalls mit einem positiven Effekt auf die Bearbeitungstemperatur. Insgesamt wird der Temperatureintrag in das Werkstück um bis zu 70 Prozent verringert.

Nacharbeitungen und Materialausschuss werden so deutlich reduziert. Gleichzeitig entsteht eine feine, gleichmässige Oberfläche, also ein perfekt reproduzierbares Finish – bis hin zu einem fehlerfreien Schliffbild für Hochglanzoberflächen.

Anschmiegsamer und präziser

Die zufällige Verteilung der Dots auf flexiblem Gewebeträger bewirkt eine herausragende Anpassungsfähigkeit an die Werkstückgeometrie. Es werden Schleifband-Flexibilitäten erreicht, die mit herkömmlich gestreuten Schleifmitteln nicht möglich sind. So können auch enge Radien und komplexe Konturen, wie Werkzeuge oder medizinische Instrumente, punktgenau und präzise bearbeitet werden. Diese hohe «Anschmiegsamkeit» von Xelerion erzeugt einen äusserst gleichmässigen Abtrag auf der Oberfläche.

Anwender atmen auf

Speziell für die Anwendung am Backstand sowie mit Powertools entwickelt, kann Xelerion auch bei der Nutzerfreundlichkeit punkten. Das hochmoderne Schleifmittel ist unkompliziert im Handling und entfaltet bereits bei geringerem Krafteinsatz bzw. niedrigem Anpressdruck seine volle Leistung. Weniger Lärm-, Geruchs- und Staubentwicklung sowie besonders hohe Laufruhe machen das Arbeiten deutlich angenehmer; besonders im Vergleich zu anderen strukturierten Schleifmitteln am Markt.

Produktivität am Maximum – weniger Körnungsschritte nötig

Das verbesserte Abtragsverhalten vereinfacht den Schleifprozess im Ganzen erheblich. Schon bei feinen Körnungen ist der Abtrag hoch, wodurch sich mit Xelerion auch ein rauer Vorschliff – zum Beispiel in Körnung 80 – problemlos ausschleifen lässt. Und mehr noch: Gängige Körnungsschritte können sogar übersprungen werden, so dass das gewünschte Oberflächenfinish mit weniger Schleifdurchgängen und Werkzeugwechseln erreicht wird. Das heisst: Die Produktivität wird massiv gesteigert, insbesondere, falls bis dato viele Körnungsschritte üblich waren.

(neu)

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