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Komplexe Lasersysteme für die Halbleitertechnologie Trumpf investiert 70 Millionen Euro

| Redakteur: lic.rer.publ. Susanne Reinshagen

Die Trumpf Gruppe investiert über 70 Mio. Euro in ein neues Gebäude, um in Zukunft optimale Voraussetzungen für die Anwendung der EUV-Technologie, ein Hightech-Verfahren zur Mikrochip-Herstellung zu haben.

Blick von Norden: Im Vordergrund liegt der Bürokomplex, der etwa 270 Entwicklungs- und Verwaltungsmitarbeitern Platz bieten wird.
Blick von Norden: Im Vordergrund liegt der Bürokomplex, der etwa 270 Entwicklungs- und Verwaltungsmitarbeitern Platz bieten wird.
(Bild: Barkow Leibinger)

Für mehr als 70 Millionen Euro gibt das Hochtechnologieunternehmen Trumpf der EUV-Technologie ein neues Zuhause. Um optimale Bedingungen für dieses Hightech-Verfahren zur Mikrochip-Herstellung zu schaffen, entstehen am Trumpf Stammsitz in Ditzingen in den nächsten zwei Jahren Neubauten mit einer Gesamtflächte von fast 34000 Quadratmetern. Eine mehrgeschossige Halle wird neben Produktionsflächen auch Reinräume sowie Versuchs- und Inbetriebnahme-Bereiche umfassen. In einem angrenzenden Büroriegel soll Raum für 270 Arbeitsplätze sein.

«Wir entwickeln und produzieren hier einzigartige, hoch komplexe Lasersysteme und schaffen damit Hightech-Arbeitsplätze in Deutschland», so Dr. Nicola Leibinger-Kammüller, Vorsitzende der Trumpf Geschäftsführung. Die Investitionskosten für das vom Architekturbüro Barkow Leibinger geplante Projekt setzen sich aus Bauwerks- und Prozesskosten zusammen. Letztere beinhalten vor allem die für die EUV-Technologie nötige, aufwändige Haustechnik.

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Hauptnutzer der neuen Gebäude ist die Ende 2014 gegründete Tochtergesellschaft Trumpf Lasersystems for Semiconductor Manufacturing, die sich ausschliesslich um die Herstellung und Weiterentwicklung der so genannten Trumpf Laser Amplifier und damit zusammenhängender Komponenten kümmert. Für diese Verstärkersysteme werden vier Hochleistungslaser in Reihe geschaltet, um extrem starke Laserpulse zu erzeugen. Diese treffen dann in einem Vakuum auf Zinntröpfchen, wobei sehr kurzwelliges EUV-Licht entsteht. Damit lassen sich in einem speziellen Belichtungsprozess Strukturen auf Mikrochips erschaffen, die mit unter zehn Nanometern nicht einmal so gross sind wie ein Grippevirus. So passen künftig mehr als zehn Milliarden Transistoren auf einen einzigen Mikrochip, was Smartphones und Co. noch sehr viel leistungsfähiger machen wird. <<

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